化学气相沉积(CVD)是指化学气体或 蒸汽在 基质表面反应合成涂层或 纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数 金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。沉积 氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，它是由 硅烷和氮反应形成的。