分子束外延（MBE）是新发展起来的外延制膜方法，也是一种特殊的 真空镀膜工艺。 外延是一种制备单晶薄膜的新技术，它是在适当的 衬底与合适的条件下，沿衬底材料 晶轴方向逐层生长薄膜的方法。该技术的优点是：使用的衬底温度低，膜层生长速率慢，束流强度易于精确控制，膜层组分和掺杂浓度可随源的变化而迅速调整。用这种技术已能制备薄到几十个原子层的单晶薄膜，以及交替生长不同组分、不同掺杂的 薄膜而形成的超薄层 量子显微 结构材料。