首页 [工艺窗口]的解释
光刻工艺容限，也称光刻工艺窗口，指的是保证掩模图形能正确复制到硅片上的曝光剂量和离焦量范围，它包含三个方面的信息：成像精确度、曝光度和 焦深   。

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