化学气相淀积指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入 反应室，在 衬底表面发生化学反应生成 薄膜的过程。在 超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备。